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光学连续式镀膜设备
采用等离子和石墨靶预处理装置，有效提高膜层的结合力；双溅射工艺腔室，单腔镀膜时间减半，更短生产节拍。
复合集流体高速分切机
独立上刀，多组刀片，实现一分多条；智能张力调控，连续稳定调节张力，保证控制精度。
单面卷绕蒸发溅射一体机
蒸发腔、溅射腔共存；蒸发腔：单面蒸发，可镀铝、锂等低温蒸发材料。
单面卷绕溅射镀膜机（三腔）
镀膜腔可拓展，实现多种工艺，高速沉积；采用等离子表面处理，有效提高膜层的结合力。
单面卷绕三源共蒸镀膜设备
1200m/min高线速；产品性能优于电容器行业的检验标准。
双面卷绕蒸发镀膜设备
突破多送丝双面一步法蒸镀工艺；一步法双面成型方阻＜35 mΩ复合铝箔（1μm）。
双面卷绕溅射镀膜设备
一步法双面镀膜，单面厚度30nm~1000nm ；实现3~50m/min工艺走速、1650大宽幅。
TCO&ITO卷绕设备
PVD 单面卷绕溅射镀膜，TCO/ITO镀膜技术；等离子处理技术。
全自动预清洗设备
用于激光划线后玻璃、盖板玻璃清洗；采用超声波清洗，清洗更彻底。
喷墨打印设备
常见钙钛矿各功能层的膜层沉积，无机盐层、有机盐层、电子传输层、空穴传输层、界面调控层等。
空间型原子层镀膜设备（ALD）
双源管路设计，快捷切换；精确控制原子级薄膜镀膜；布气板模块化设计，维护便捷。
反应式等离子体镀膜设备（RPD）
低损伤、低温高迁高透工艺；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
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